窒化アルミニウム (AlN) セラミックは電気絶縁性と優れた熱伝導率を備えているため、放熱が必要な用途に最適です。
製品詳細：
半導体窒化アルミニウム(AlN)セラミック装置スロットディスク
製品説明：
半導体の製造プロセスにはプラズマが発生する過酷な環境が含まれます。したがって、耐プラズマ性に優れた窒化アルミニウムセラミックスの方が半導体製造に適しています。さらに、半導体の製造では、ウェハ上に高品質の膜を形成するために、揮発性前駆体ガス、プラズマ、高温を組み合わせて使用されます。成膜チャンバーとウェーハハンドリングツールには、これらの困難な環境に耐える耐久性のあるセラミックコンポーネントが必要であるため、窒化アルミニウムセラミックスロットディスクは半導体産業に適しています。
当社の窒化アルミニウム (AlN) 基板は、さまざまなサイズと厚さをご用意しています。豊富な在庫のおかげで、お客様がプロジェクトを開始できるよう、部品を迅速に発送できます。
当社のサービス：
カスタマイズについてはお問い合わせください。
仕様：
| 寸法(長さ×幅) | φ170mmなど |
| 厚さ | 7mmなど |
| 熱伝導率 | 170W/m.K |
| 誘電率 | 8～9(MHz) |
| かさ密度 | 3.3g/cm3 |
| 表面粗さ | 両面Ra≤6μm |
会社の利点:
華清は2004年に設立され、投資額は8,000万人民元、登録資本金は4,000万人民元です。 Huaqing の AlN および Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、高い熱伝導率、低い誘電率、良好な誘電正接、優れた機械的特性を備えています。 AlN および Al2O3 セラミックは、HBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。
ワークショップと設備:
梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどで配送します。
窒化アルミニウム (AlN) セラミックは電気絶縁性と優れた熱伝導率を備えているため、放熱が必要な用途に最適です。製品詳細：材質: 窒化アルミニウム 機能: 絶縁および放熱装置。タイプ: セラミック。色: グレー。カスタマイズ可能: はい、特定の製品の図面を提供してください。
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