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窒化アルミニウムセラミック基板
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半導体用窒化アルミニウム(AlN)セラミックス機器用スロットディスク

AlN Disc

半導体用窒化アルミニウム(AlN)セラミックス機器用スロットディスク

窒化アルミニウム (AlN) セラミックは電気絶縁性があり、熱伝導性に優れているため、放熱が必要な用途に最適です。

製品詳細:

  1. 材質: 窒化アルミニウム
  2. 機能:断熱・放熱装置。
  3. タイプ: セラミック。
  4. 色: グレー。
  5. カスタマイズ可能: はい、特定の製品の図面をご提供ください。

半導体用窒化アルミニウム(AlN)セラミックス機器用スロットディスク

製品説明:

半導体の製造プロセスには、プラズマが発生する過酷な環境が含まれます。そのため、優れたプラズマ耐性を備えた窒化アルミニウムセラミックは、半導体製造に適しています。さらに、半導体の製造では、揮発性前駆体ガス、プラズマ、高温の組み合わせを使用して、高品質のフィルムをウェーハ上に置きます。堆積チャンバーとウェーハ処理ツールには、これらの厳しい環境に耐える耐久性のあるセラミック部品が必要であるため、窒化アルミニウムセラミックスロットディスクは半導体業界に適しています。

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当社の窒化アルミニウム (AlN) 基板は、さまざまなサイズと厚さでご用意しています。 大量かつ最新の在庫により、プロジェクトを開始できるよう部品を迅速に発送できます。

当社のサービス:

カスタマイズについてはお問い合わせください。

仕様:

寸法(長さx幅)φ170mm等
厚さ7mmなど
熱伝導率170W/mK
誘電率8-9 (MHz)
嵩密度3.3g/cm³
表面粗さ両面Ra≤6μm

会社の強み:

華清は2004年に設立され、総投資額は8000万人民元、登録資本金は4000万人民元です。華清のAlNおよびAl2O3セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、高い熱伝導性、低い誘電率、良好な散逸率、優れた機械的特性を備えています。AlNおよびAl2O3セラミックは、HBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。

ワークショップと設備:

梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどで配送します。

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