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窒化アルミニウムセラミック基板
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高精度なレーザー穴あけ窒化アルミニウム セラミック ヒートシンク基板

高精度なレーザー穴あけ窒化アルミニウム セラミック ヒートシンク基板

窒化アルミニウム(AlN)セラミックスは、熱伝導率が高く、誘電率と散逸係数が低く、絶縁性が高く、機械的特性に優れ、線膨張係数も優れています。焼成された基板は、高出力レーザー装置で正確に処理できます。

製品詳細:

  1. 材質: 窒化アルミニウム
  2. 機能: 絶縁装置セラミック。
  3. タイプ:セラミック。
  4. 色: グレー。
  5. 通関可能: はい、特定の商品の図面を提供してください。

高精度なレーザー穴あけ窒化アルミニウム セラミック ヒートシンク基板

製品説明:

窒化アルミニウムは、電気用途の放熱基板に最適です。高い機械的硬度、高い熱伝導率、熱膨張係数、優れた抵抗率、優れた化学的安定性を備えています。

窒化アルミニウムは、電気絶縁性と高い熱伝導率を備えた数少ない材料の 1 つです。これにより、窒化アルミニウムは、ハイパワー エレクトロニクス アプリケーションのヒートシンクおよびヒート スプレッダ アプリケーションに非常に役立ちます。

aln heat sink 的图像结果

当社の窒化アルミニウム基板は、さまざまなサイズと厚さで入手できます。大量の在庫があるおかげで、プロジェクトを開始するためにパーツを迅速に発送できます。

当社のサービス:

カスタマイズについてはお問い合わせください。

寸法42×30mm
厚さ1.0mm
熱伝導率170W/m.K
誘電率8~9(mHz)
かさ密度3.3g/cm³
表面粗さラー < 両面0.6μm

会社の利点:

Huaqing は 2004 年に設立され、総投資額は 8000 万元、登録資本金は 4000 万元です。 Huaqing の AlN & Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、熱伝導率が高く、誘電率が低く、散逸率が高く、機械的特性に優れています。 AlN & Al2O3 セラミックは、HEBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、およびその他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。

研修会及び装置:

梱包と配送:

UPS、DHL、Fedexなどでお届けします。

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