窒化アルミニウム(AlN) セラミックスペーサーは、高熱伝導率、低膨張係数、高温耐性、高抵抗率、低誘電損失を備えています。
製品詳細:
ヒートシンク用乾式プレス窒化アルミニウムセラミックディスク
製品説明:
窒化アルミニウム(AlN)の熱伝導率は170W/(mk)を超え、耐熱衝撃性に優れ、1800℃の高温環境でも使用可能です。したがって、ヒートシンクとしては良い選択です。
当社の窒化アルミニウム基板 (AlN) は、さまざまなサイズと厚さをご用意しています。豊富な在庫のおかげで、お客様がプロジェクトを開始できるよう、部品を迅速に発送することができます。
当社のサービス:
寸法(長さ×幅) | φ26、φ35、φ40、φ45mm等 |
厚さ | 1.5~10mm |
熱伝導率 | 170W/m.K |
誘電率 | 8~9(MHz) |
かさ密度 | 3.3g/cm3 |
表面粗さ | ラ < 両面0.6μm |
会社の利点:
華清は2004年に設立され、投資総額は8,000万人民元、登録資本金は4,000万人民元です。 Huaqing の AlN および Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、高い熱伝導率、低い誘電率、良好な誘電正接、および優れた機械的特性を備えています。 AlN&Al2O3 セラミックは、HBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。
ワークショップと設備:
梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどで配送します。
私たちのサービスが必要な理由は、プロジェクトが適切に行われ、機能することを確認するための専門知識と経験を持つ、高度な資格を持つ専門家を獲得していることを知っているからです。
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