窒化アルミニウム(AlN)は、熱伝導率の高い誘電絶縁体セラミックです。酸化ベリリウムと同じ高い熱的および電気的性能を、より経済的なコストで提供し、毒性の懸念もありません。
製品詳細:
高温絶縁体 窒化アルミニウム(AlN) セラミックプレート基板
製品説明:
優れた熱伝導率と高い電気絶縁能力を実現するには、その有効性から窒化アルミニウム (AlN) 基板が優れた選択肢となります。窒化アルミニウムセラミック基板の熱膨張係数と絶縁係数はシリコン製品の熱膨張係数と密接に関連しているため、高温と熱放散が考慮されるエレクトロニクス用途に役立ちます。
当社の窒化アルミニウム (AlN) 基板は、さまざまなサイズと厚さをご用意しています。豊富な在庫のおかげで、プロジェクトを開始できるよう部品を迅速に発送できます。
サービス:
カスタマイズについてはお問い合わせください。
仕様:
寸法(長さ×幅) | φ216.298mm |
厚さ | 14.33~15.06mm |
熱伝導率 | 170W/m.k |
誘電率 | 8~9(MHz) |
かさ密度 | 3.3g/cm3 |
表面粗さ | 両面Ra≤6μm |
会社の利点:
華清は2004年に設立され、投資額は8,000万人民元、登録資本金は4,000万人民元です。華清のAlN&Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比べて、高い熱伝導率、低い誘電率、良好な誘電正接、優れた機械的特性を備えています。 AlN&Al2O3 セラミックは、HBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。
ワークショップと設備:
梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどで配送します。
私たちのサービスが必要な理由は、プロジェクトが適切に行われ、機能することを確認するための専門知識と経験を持つ、高度な資格を持つ専門家を獲得していることを知っているからです。
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