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窒化アルミニウムセラミック基板
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カスタム研磨された窒化アルミニウム薄膜セラミックシート

aluminum nitride Thin Film Substrates

カスタム研磨された窒化アルミニウム薄膜セラミックシート

窒化アルミニウム(AlN)セラミックスは、電気絶縁性と優れた熱伝導性を備えており、放熱が必要な用途に最適です。

製品詳細:

  1. 材質: 窒化アルミニウム
  2. 機能: 絶縁性と放熱性のセラミック。
  3. タイプ: セラミック
  4. 色: グレー
  5. カスタマイズ可能: はい、特定の製品の図面を提供してください。

カスタム研磨された窒化アルミニウム薄膜セラミックシート

製造の説明:

薄膜技術は、半導体およびマイクロシステム技術プロセスを使用して、セラミックまたは有機材料上に回路基板を製造します。窒化アルミニウム薄膜セラミックには、良好な導電性、良好な気密性、良好な高温安定性、およびセラミック基板への高い接着強度という利点があります。光通信パッケージングの分野で広く使用されています。

当社の窒化アルミニウム基板 (AlN) は、さまざまなサイズと厚さをご用意しています。豊富な在庫のおかげで、お客様がプロジェクトを開始できるよう、部品を迅速に発送することができます。

当社のサービス:

カスタマイズについてはお問い合わせください。

仕様:

寸法(長さ×幅)50.8*50.8mm、114.3*114.3mmなど
厚さ0.1~1.5mm
熱伝導率170-230 W/m.k
誘電率8~9(MHz)
かさ密度3.3g/m3
表面粗さ両面Ra≦0.03μm

会社の利点:

華清は2004年に投資総額8,000万人民元、登録資本金4,000万人民元で設立されました。華清のAlN&Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、高い熱伝導率、低い誘電率、良好な誘電正接、優れた機械的特性を備えています。 AlN&Al2O3 セラミックは、HBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。

ワークショップと設備:

梱包と配送:

UPS、DHL、Fedexなどで配送します。

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