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窒化アルミニウムセラミック基板
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HBLED用窒化アルミニウムAlNセラミック基板の研磨

HBLED用窒化アルミニウムAlNセラミック基板の研磨

窒化アルミニウムセラミックは、高い熱伝導率、良好な電気抵抗、低密度という利点を持ち、窒化アルミニウムセラミックの係数はシリコンの係数に類似しています。

製品詳細:

  1. 材質: 窒化アルミニウム
  2. 機能: 絶縁性と放熱性のセラミック。
  3. タイプ: セラミック。
  4. 色: グレー。
  5. カスタマイズ可能: はい、特定の製品の図面を提供してください。

HBLED用窒化アルミニウムAlNセラミック基板の研磨

製品説明:

窒化アルミニウムセラミックは、その優れた特性により、良好な熱拡散能力と良好な電気絶縁性が必要とされる用途にとって理想的な材料となります。活性はんだは、HBLED で使用されている熱伝導性セラミック AlN の多くを濡らし、接着することができ、効果的で熱的に安定した伝導性の接合を可能にします。

led 的图像结果

仕様:

寸法(長さ×幅)50.8*50.8mm、114.3*114.3mmなど
厚さ0.1~1.5mm
熱伝導率170-230 W/m.k
誘電率8~9(MHz)
かさ密度3.3g/m3
表面粗さ両面Ra≦0.03μm

会社の利点:

華清は2004年に投資総額8,000万人民元、登録資本金4,000万人民元で設立されました。 Huaqing の AlN&Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比べて、高い熱伝導率、低い誘電率、良好な誘電正接、優れた機械的特性を備えています。 AlN&Al2O3 セラミックは、HBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。

ワークショップ&設備:

梱包と配送:

UPS、DHL、Fedexなどで配送します。

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