当社の窒化アルミニウムは、酸化、化学攻撃、熱衝撃、機械的強度に対する優れた耐性、低い誘電率、シリコン結晶と同等の熱膨張係数、および高い熱伝導率を備えています。
製品詳細:
半導体用窒化アルミニウムセラミック静電チャック
製品説明：
現代の半導体製造プロセスでは、ウェーハは複数のステップで処理され、数百のプロセス装置間でウェーハを往復させる必要があります。そのため、ウェーハをクランプするための装置が必要です。静電チャックは静電吸着によってウェーハを保持します。吸着力は均一で安定しており、ウェーハは反ったり変形したりしないため、ウェーハの加工精度と清浄度を確保できます。
当社のサービス:
当社の窒化アルミニウム基板は、さまざまなサイズと厚さで提供されています。
仕様：
| 寸法(長さx幅) | φ110×110mm |
| 厚さ | 5mmなど |
| 熱伝導率 | 170W/mK |
| 誘電率 | 8-9 (MHz) |
| 嵩密度 | 3.3g/cm³ |
| 表面粗さ | ラ < 両面0.6μm |
会社の強み:
華清は2004年に設立され、総投資額は8000万人民元、登録資本金は4000万人民元です。華清のAlNおよびAl2O3セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、高い熱伝導性、低い誘電率、良好な散逸率、優れた機械的特性を備えています。AlNおよびAl2O3セラミックは、HBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。
ワークショップと設備:
梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどで配送します。
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