当社の窒化アルミニウムは、酸化、化学的攻撃、熱衝撃に対する優れた耐性、機械的強度、低誘電率、シリコン結晶と同様の熱膨張係数、および高い熱伝導率を備えています。
製品の詳細:
半導体用窒化アルミニウムセラミック静電チャック
製品説明：
最新の半導体製造プロセスでは、ウェーハは複数のステップで処理され、ウェーハは数百のプロセス装置間を行き来する必要があります。したがって、ウェーハをクランプするための装置が必要です。静電チャックは静電吸着によりウェーハを保持することができ、吸着力が均一で安定しており、ウェーハの反りや変形がなく、ウェーハの加工精度と清浄度を確保できます。
当社のサービス:
当社の窒化アルミニウム基板は、さまざまなサイズと厚さをご用意しています。
仕様：
| 寸法(長さ×幅) | φ110×110mm |
| 厚さ | 5mmなど |
| 熱伝導率 | 170W/m.K |
| 誘電率 | 8～9(MHz) |
| かさ密度 | 3.3g/cm3 |
| 表面粗さ | ラ < 両面0.6μm |
会社の利点:
華清は2004年に設立され、投資額は8,000万元、登録資本金は4,000万元です。 Huaqing の AlN および Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、高い熱伝導率、低い誘電率、良好な誘電正接、優れた機械的特性を備えています。 AlN および Al2O3 セラミックは、HBLED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。
ワークショップ&設備:
梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどで配送します。
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