酸化アルミニウム(Al2O3) 非常に高い硬度、高温耐性、絶縁性を備えているため、あらゆる種類の高精度機器に広く使用されています。当社のアルミナ基板は、絶縁性、熱伝導性、破断強度のバランスに優れています。
製品詳細:
半導体用99.9%高純度アルミナセラミックス基板
製品説明:
酸化アルミニウム(Al2O3)、高い硬度と耐摩耗性、低い侵食レベル、高温耐性。また、市販されているグレードは 90% ~ 99.9% で、純度が高いほど硬度が高くなります。また、優れた強度、高い動作温度、超高純度の組成を必要とする過酷な使用条件にも適用されます。そのため、半導体製造や高純度を必要とするお客様に最適です。
当社の Al2O3 は、さまざまなサイズと厚さで入手できます。大量の在庫があるため、プロジェクトを開始するために迅速に発送できます。
当社のサービス:
カスタマイズについてはお問い合わせください。
仕様:
寸法(長さ×幅) | φ80mm |
厚さ | 1.5mm |
熱伝導率 | 29W/m.k |
誘電率 | 9-10.5 (メガヘルツ) |
かさ密度 | 3.9g/cm³ |
表面粗さ | Ra:0.03~0.7μm |
会社の利点:
Huaqing は 2004 年に設立され、総投資額は 8000 万元、登録資本金は 4000 万元です。 Huaqing の AlN & Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、熱伝導率が高く、誘電率が低く、散逸率が高く、機械的特性に優れています。 AlN & Al2O3 セラミックは、HELED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、およびその他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。
研修会及び装置:
梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどでお届けします。
私たちのサービスが必要な理由は、プロジェクトが適切に行われ、機能することを確認するための専門知識と経験を持つ、高度な資格を持つ専門家を獲得していることを知っているからです。
無料相談をご希望の場合は、フォームに記入して開始してください: