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アルミナセラミック基板
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半導体用99.9%高純度アルミナセラミックス基板

半導体用99.9%高純度アルミナセラミックス基板

酸化アルミニウム(Al2O3) 非常に高い硬度、高温耐性、絶縁性を備えているため、あらゆる種類の高精度機器に広く使用されています。当社のアルミナ基板は、絶縁性、熱伝導性、破断強度のバランスに優れています。

製品詳細:

  1. 素材:酸化アルミニウム。
  2. 機能: 絶縁装置セラミック。
  3. 色: ホワイト。
  4. タイプ:セラミック。
  5. カスタマイズ可能: はい、特定の製品の図面を提供してください。

半導体用99.9%高純度アルミナセラミックス基板

製品説明:

酸化アルミニウム(Al2O3)、高い硬度と耐摩耗性、低い侵食レベル、高温耐性。また、市販されているグレードは 90% ~ 99.9% で、純度が高いほど硬度が高くなります。また、優れた強度、高い動作温度、超高純度の組成を必要とする過酷な使用条件にも適用されます。そのため、半導体製造や高純度を必要とするお客様に最適です。

当社の Al2O3 は、さまざまなサイズと厚さで入手できます。大量の在庫があるため、プロジェクトを開始するために迅速に発送できます。

当社のサービス:

カスタマイズについてはお問い合わせください。

仕様:

寸法(長さ×幅)φ80mm
厚さ1.5mm
熱伝導率29W/m.k
誘電率9-10.5 (メガヘルツ)
かさ密度3.9g/cm³
表面粗さRa:0.03~0.7μm

会社の利点:

Huaqing は 2004 年に設立され、総投資額は 8000 万元、登録資本金は 4000 万元です。 Huaqing の AlN & Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、熱伝導率が高く、誘電率が低く、散逸率が高く、機械的特性に優れています。 AlN & Al2O3 セラミックは、HELED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、およびその他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。

研修会及び装置:

梱包と配送:

UPS、DHL、Fedexなどでお届けします。

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