酸化アルミニウム(Al)2O3) セラミックは優れた電気絶縁体であり、最も広く使用されている高度なセラミック材料の 1 つです。また、摩耗や腐食に非常に強く、ダイヤモンド研磨でしか成形できない工業用セラミックスです。
製品詳細:
産業用レーザー切断集積回路用酸化アルミニウムセラミックプレート
製品説明:
酸化アルミニウム(Al2O3) セラミックは、広い温度範囲と周波数範囲にわたって許容可能な誘電率と低い誘電損失を備えた優れた電気絶縁材料です。これはほとんどの厚膜セラミック基板に選ばれる材料であり、実証済みの信頼性を備えた回路に耐久性とコスト効率の高いパフォーマンスを提供します。
私たちのアル2O3 さまざまなサイズと厚さをご用意しています。豊富な在庫のおかげで、お客様がプロジェクトを開始できるよう、部品を迅速に発送することができます。
当社のサービス:
カスタマイズについてはお問い合わせください。
仕様:
寸法(長さ×幅) | カスタム |
厚さ | 0.635mm |
熱伝導率 | 29W/分 |
誘電率 | 9~10.5(MHz) |
かさ密度 | 3.9g/cm3 |
表面粗さ | Ra:0.03-0.7μm |
会社の利点:
華清は2004年に設立され、投資総額は8,000万人民元、登録資本金は4,000万人民元です。 Huaqing の AlN および Al2O3 セラミック製品は、業界の他の工場と比較して、高い熱伝導率、低い誘電率、良好な誘電正接、優れた機械的特性を備えています。 AlN および Al2O3 セラミックは、HELED、光通信、IGBT、パワーデバイス、TEC、その他のハイエンドアプリケーションで広く使用されています。
ワークショップと設備:
梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどで配送します。
私たちのサービスが必要な理由は、プロジェクトが適切に行われ、機能することを確認するための専門知識と経験を持つ、高度な資格を持つ専門家を獲得していることを知っているからです。
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