酸化アルミニウム (Al2O3) セラミックは優れた電気絶縁体であり、最も広く使用されている高度なセラミック材料の 1 つです。また、耐摩耗性、耐腐食性に優れ、ダイヤモンド研磨でしか形成できない工業用セラミックスです。
製品詳細:
集積回路用の産業用レーザー切断Aluminun酸化物セラミックプレート
製品説明:
酸化アルミニウム(Al2O3) セラミックは良好な電気絶縁材料であり、広い温度範囲と周波数範囲にわたって許容可能な誘電率と低誘電損失を備えています。これは、ほとんどの厚膜セラミック基板に最適な材料であり、実証済みの信頼性を備えた回路に耐久性と費用対効果の高い性能を提供します。
私たちのアル2O3 さまざまなサイズと厚さで利用できます。豊富な在庫のおかげで、プロジェクトを開始するために部品を迅速に発送できます。
当社のサービス:
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仕様:
寸法(長さ×幅) | カスタム |
厚さ | 0.635mm |
熱伝導率 | 29W/m.k |
誘電率 | 9-10.5 (メガヘルツ) |
かさ密度 | 3.9g/cm³ |
表面粗さ | Ra:0.03~0.7μm |
会社の利点:
Huaqing は 2004 年に設立され、総投資額は 8000 万元、登録資本金は 4000 万元です。 Huaqing の AlN & Al2O3 セラミックス製品は、業界の他の工場と比較して、高い熱伝導率、低い誘電率、優れた散逸率、および優れた機械的特性を備えています。 AlN および Al2O3 セラミックは、HELED、光通信、IGBT、パワー デバイス、TEC、およびその他のハイエンド アプリケーションで広く使用されています。
研修会及び装置:
梱包と配送:
UPS、DHL、Fedexなどでお届けします。
私たちのサービスが必要な理由は、プロジェクトが適切に行われ、機能することを確認するための専門知識と経験を持つ、高度な資格を持つ専門家を獲得していることを知っているからです。
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